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美芯晟 IPO:自研高壓集成工藝平臺,走差異化發(fā)展道路

作者:用戶投稿 時間:2023-04-01 14:34 點擊:
導讀:工藝平臺是模擬芯片設計與制作的基礎。美芯晟科技(北京)股份有限公司成立于 2008 年,專注于高性能模擬及數(shù)?;旌闲酒邪l(fā)和銷售,在 BCD 高壓集成工藝開發(fā)方面,公司建立了自有工藝研發(fā)團隊,具有自主研發(fā)工藝及開發(fā)特殊器件的能力,不再單純依賴晶圓代工廠提供的標準工藝。公司自主研發(fā)的 700V-BCD 高壓集成工藝和 100V-BCD 器件工藝能夠促進芯片生產(chǎn)成本的優(yōu)化以及供應鏈整合,不再單純依賴晶

工藝平臺是模擬芯片設計與制作的基礎。美芯晟科技(北京)股份有限公司成立于 2008 年,專注于高性能模擬及數(shù)?;旌闲酒邪l(fā)和銷售,在 BCD 高壓集成工藝開發(fā)方面,公司建立了自有工藝研發(fā)團隊,具有自主研發(fā)工藝及開發(fā)特殊器件的能力,不再單純依賴晶圓代工廠提供的標準工藝。

公司自主研發(fā)的 700V-BCD 高壓集成工藝和 100V-BCD 器件工藝能夠促進芯片生產(chǎn)成本的優(yōu)化以及供應鏈整合,不再單純依賴晶圓代工廠提供的標準工藝,可以開發(fā)出具有特色的集成電路產(chǎn)品,進一步節(jié)省晶圓加工的層數(shù)與成本,大幅提升公司產(chǎn)品的市場競爭力。

1)700V-BCD 高壓集成工藝

700V-BCD 高壓集成工藝是 LED 驅(qū)動及 AC-DC 控制器(含高壓啟動)產(chǎn)品線的主流工藝平臺,晶圓代工廠提供的標準工藝一般需要 13 層以上光罩。公司自研的第二代 700V-BCD 高壓集成工藝可將光罩層數(shù)降低到 12 層,同時對超高壓器件進行版圖與工藝的優(yōu)化,使得抗浪涌能力提高 30% 以上。該工藝能夠節(jié)省外圍抗浪涌器件數(shù)量,節(jié)約生產(chǎn)成本,在同類工藝中優(yōu)勢明顯。目前,公司的 LED 照明驅(qū)動芯片及有線快充芯片(在研)產(chǎn)品線已采用該工藝進行設計、生產(chǎn)。

在自研第二代的基礎上,公司不斷迭代升級,進一步研發(fā)第三代 700V-BCD 高壓集成工藝。研發(fā)完成后,可將光罩層數(shù)進一步減少到 10 層,同時優(yōu)化集成的 5V 低壓器件,總體成本較第二代工藝降低 30% 以上。

2)100V-BCD 器件工藝

60V-BCD 器件工藝是 LED 驅(qū)動控制器(不含高壓啟動)、AC-DC 控制器(不含高壓啟動)及 DC-DC 等產(chǎn)品的主流工藝平臺。隨著車用芯片、智能家居應用芯片及 USB-PD 與 QC3.0 以上的快充應用的發(fā)展,60V 耐壓的器件工藝平臺已不能滿足芯片開發(fā)的要求,需要擴展 80V~100V 器件,在通用的 60V-BCD 器件平臺上額外增加 2~5 層光罩。目前,具有 100V-BCD 器件工藝平臺的晶圓代工廠數(shù)量較少,產(chǎn)能受到限制。

公司以現(xiàn)有通用的 60V-BCD 器件工藝平臺為基礎,在不增加光罩層數(shù)的前提下自研 100V-BCD 器件工藝,開發(fā)出 80V、100V 器件。目前,該工藝已運用于 LED 照明驅(qū)動芯片及有線快充芯片(在研)的設計、生產(chǎn)。

公司將上述核心技術充分應用于產(chǎn)品的設計、研發(fā),推出了一系列具有市場競爭力的核心產(chǎn)品,形成了良好的口碑,奠定了公司的市場地位。未來,公司將通過持續(xù)的研發(fā)投入和技術積累,與晶圓代工廠形成戰(zhàn)略合作關系,在 0.18um-BCD 工藝上自研工藝及開發(fā)特定器件,形成獨特的技術優(yōu)勢,為后續(xù)信號鏈傳感器芯片的設計研發(fā)、靈敏度優(yōu)化、抗噪聲能力增強等方面打下良好的基礎。

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